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11日，Aresis China主辦的 “1μm線寬/間隔電極制作工藝 ”技術(shù)培訓(xùn)舉行。此次培訓(xùn)吸引了來自東北師大、南京工業(yè)大學(xué)、中國農(nóng)業(yè)大學(xué)、中國電力研究所、沈陽自動(dòng)化研究所、上海交通大學(xué)、西安交通大學(xué)、天津大學(xué)、北京航空航天大學(xué)、濟(jì)南大學(xué)等多所院校的師生及北京恒三江、重慶盛科納、安徽澤攸科技等科技公司的技術(shù)人員的參與。 培訓(xùn)圍繞著1μm線寬和1μm間隔電極制作工藝展開，無掩膜激光直寫光刻機(jī)廠家miDALIX的資深技術(shù)工程師著重分享了該工藝涉及的各種知識(shí)：什么是光刻，如何選擇光刻膠，軟光刻技術(shù)的實(shí)現(xiàn)要求，工藝實(shí)現(xiàn)的前期準(zhǔn)備、電極設(shè)計(jì)與精確對(duì)準(zhǔn)、曝光的質(zhì)量控制及注意事項(xiàng)、顯影的質(zhì)量控制與注意事項(xiàng)等等。而本次培訓(xùn)的合作公司則分享了真空制膜技術(shù)、蒸鍍?cè)O(shè)備與蒸鍍方法、用掃描電鏡檢驗(yàn)蒸鍍結(jié)果等內(nèi)容?？梢哉f，本次培訓(xùn)完整地呈現(xiàn)了電極制作的整個(gè)使用過程，將操作雷點(diǎn)一一指出，并告知原因和解決方案，對(duì)使用者提高lift-off的成功率很有幫助。
DaLI無掩膜納米光刻機(jī)220nm間隔蒸鍍后的電極展示
1μm線寬電極展示（DaLI無掩膜納米光刻機(jī)） 培訓(xùn)接近尾聲，Aresis China還組建了技術(shù)分享與答疑群，分享培訓(xùn)會(huì)中未詳盡之處，也給有疑問的與會(huì)者提供了一個(gè)提問與答疑的平臺(tái)。與會(huì)者紛紛加群，與Aresis China建立了更進(jìn)一步的聯(lián)絡(luò)。 據(jù)悉，光刻技術(shù)培訓(xùn)/分享會(huì)將持續(xù)開展，另有光鑷應(yīng)用培訓(xùn)/分享會(huì)也將展開，如有意愿參加的老師和同學(xué)可以聯(lián)系A(chǔ)resis China，聯(lián)系方式：
Tel：010-62716680
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