4月22日，Aresis China兄弟公司miDALIX的技術總監(jiān)Anze Jeric將應邀在山東大學物理學院進行一次主題為“超穩(wěn)定無掩膜納米光刻技術”的宣講會。歡迎對光刻技術感興趣的老師和同學們屆時參加。

主講人：Anze Jeric
公司：Aresis China |艾銳斯科技（北京）有限公司
時間：4月22日 上午9:00
地點：物理學院 離子束會議室
邀請人：王磊 副教授

摘要：
1. 光刻技術及其應用的簡單介紹。
2. 超穩(wěn)定無掩膜納米光刻機的技術實現(xiàn)：如何將納米級超高精度激光定位技術引入光刻機的設計實踐，如何更好的操控直寫光源，其它部分設計與納米級超高精度激光定位技術的配合。
3. 超穩(wěn)定無掩膜納米光刻技術在實際應用中的優(yōu)勢：結構平滑度，定位精準度，套刻精準度，穩(wěn)定度保證等。
4. 使用超穩(wěn)定無掩膜納米光刻技術設備過程中需要注意的關鍵問題。
5. 其它用戶友好設計與該技術的主要應用領域。
6. 典型應用實例展示。

典型產品：DALI高分辨無掩膜納米光刻機
主要特點
最小特征結構可小達1μm
對I-line光刻膠進行優(yōu)化（SU-8，AZ，……）
超快不超高精度定位，定位分辨率＜1nm
適用于從CAD設計到各種結構的快捷構建
用戶友好的單應用界面
具備自勱對焦機制不離焦直寫模式
內建顯微鏡可用于樣品定位
具備非平表面直寫能力
可構建高深寬比結構（可達10:1）
獨有的光斑間距調節(jié)功能以獲得超高平滑度的結構