產(chǎn)品概述基本特點結(jié)果展示安裝圖集用戶評價

miDALIX的核心技術(shù)源于Aresis的AOD高精度激光操控技術(shù)。Aresisd.o.o.是一家立足于高校和研究所的科研型高科技公司。在過去的二十多年中，Aresis一直致力于基于聲光偏轉(zhuǎn)技術(shù)（AOD）的各種激光操控研究，并成功地將其研究成果應(yīng)用于成熟穩(wěn)定的科研設(shè)備開發(fā)實踐中?；谠诟咚貯OD應(yīng)用領(lǐng)域的深厚技術(shù)積累，Aresis開發(fā)了Tweez系列高速多光阱納米光鑷系統(tǒng)和DaLI高精度無掩膜納米光刻機。為世界范圍內(nèi)的科研工作者提供了技術(shù)先進(jìn)、性能穩(wěn)定的科研工具，得到了用戶的廣泛好評。

Tweez系列光鑷系統(tǒng)可同時以亞納米級定位分辨率操控200個以上目標(biāo)，并可以實現(xiàn)1pN精度的力學(xué)測量，光場均一，系統(tǒng)穩(wěn)定，在國內(nèi)已經(jīng)擁有多家合作應(yīng)用示范實驗室。Jo?ef Stefan 研究所的Dr Igor Mu?evi? 更是已經(jīng)應(yīng)用Tweez系列光鑷發(fā)表了多篇Sicence Nature 高水平科研論文。

Aresis、CENN Nanocenter 和德國LPKF聯(lián)合研發(fā)的DaLI 高精度無掩膜納米光刻機（原Proto Laser LDI），是一款性能穩(wěn)定，技術(shù)可靠，對環(huán)境要求低，對于操作者要求簡單，界面友好，易于操作，零維護(hù)的桌面型高精度激光直寫設(shè)備。2014年前后，CENN Nanocenter 聯(lián)合多家頂級實驗室發(fā)表了多篇Science Nature文章。

2015 Nature Communication Fast electronic resistance switching involving hidden charge density wave states

2014 Science Ultrafast Switching to a Stable Hidden Quantum State in an Electronic Crystal

為更好地服務(wù)于廣大的客戶， miDALIX與艾銳斯科技（北京）有限公司（Aresis China）先后在歐洲和中國成立。希望能夠以我們的努力，為更多的實驗室提供一流的設(shè)備！

超穩(wěn)定，長時效375nm激光

相對于其它各種光源，在精密光學(xué)儀器應(yīng)用中，激光光源在光束質(zhì)量，穩(wěn)定性，耐用性等方面具有無與倫比的優(yōu)越性。DaLI無掩膜納米光刻機采用最優(yōu)的激光光源，以保證超一流的性能和用戶體驗。

廣泛的適應(yīng)性

DaLI無掩膜納米光刻機廣泛適用于各種I-line光刻膠，AZ系列正膠，SU-8系列負(fù)膠等，在各種厚膠與薄膠應(yīng)用中有著出色的表現(xiàn)。

非平表面直寫功能

整機恒溫系統(tǒng)，保證最佳的性能

DaLI無掩膜納米光刻機采用了超越光刻技術(shù)極限的亞納米級AOD激光操控技術(shù)，光斑定位精度可達(dá)0.1nm。為充分發(fā)揮AOD技術(shù)的優(yōu)勢，我們建立了整機恒溫系統(tǒng)，控溫精度可達(dá)±0.1℃，將設(shè)備所有部件和溫差形變和熱漂移降到最低，從而實現(xiàn)真正的高精度光刻。

準(zhǔn)確的圖形結(jié)構(gòu)

應(yīng)變儀實刻結(jié)構(gòu) 應(yīng)變儀設(shè)計圖

工作范圍與曝光拼接

大光斑直寫工具單個工作區(qū)域為900μm X 900μm；

小光斑直寫工具單個工作區(qū)域為300μm X 300μm

工作區(qū)域100mm X 100mm 工作區(qū)域間的平滑過渡機制（軟拼接與硬拼接）

DaLI的軟拼接可以將曝光掃描線延伸到臨近區(qū)域，并梯度降低激光強度（紅線）。在臨近區(qū)域，激光強度梯度增加（藍(lán)線），從而獲得干凈均一的拼接圖案

用戶友好的操作軟件

DaLI控制軟件通過USB接口與設(shè)備快速通訊，可以對設(shè)計圖中的區(qū)塊和每一個微結(jié)構(gòu)的曝光參數(shù)進(jìn)行設(shè)置，對圖形設(shè)計的預(yù)覽和快速柵格化，對樣品的觀察、準(zhǔn)直、調(diào)平等。該軟件具備圖形設(shè)計和展示功能，可選用多種繪圖工具，支持對 dxf, gerber, bm 等格式文件的導(dǎo)入與修改。

先進(jìn)的AOD技術(shù)，定位分辨率優(yōu)于0.1nm

A. 可以獲得任意平滑、銳利的結(jié)構(gòu)邊緣

不同點距獲得的結(jié)構(gòu)平滑度差異

B. 可高分辨調(diào)整特征結(jié)構(gòu)間的距離

150nm結(jié)構(gòu)間隙

C. 可以實現(xiàn)亞微米級精細(xì)結(jié)構(gòu)的構(gòu)建

約100納米寬的精細(xì)結(jié)構(gòu)

多重校準(zhǔn)/反饋機制

超高精度的先進(jìn)AOD激光操控技術(shù)，使得通過各種校準(zhǔn)與反饋機制來提升整機系統(tǒng)的精度和穩(wěn)定性變得前所未有的簡單可行。DaLI具有多種校準(zhǔn)和反聵機制，無需用戶干預(yù)即可完成，為其優(yōu)異的性能提供更多保障。

兩種直寫光斑自動切換

A. 小光斑直寫工具用于對精度要求較高的圖形構(gòu)建,光斑直徑1μm

1微米直寫工具可獲得900nm孔洞

B. 光斑直寫工具適用于大面積高速直寫,光斑直徑3μm

更好的深寬比

優(yōu)于10:1的深寬比

DaLI基礎(chǔ)款參數(shù)

基材尺寸DaLI-A基本參數(shù)	可達(dá)100 mm x 100 mm (4’’ x 4’’)
激光波長	375 nm
激光光斑尺寸 (TEM00)	1 μm (0.04 Mil) and/或 3 μm (0.12 Mil), 用戶可自選
激光光斑定位分辨率	< 1 nm
激光直寫速度	可至100 000 spots per second
圖形尺寸	可至 1 μm (0.04 Mil)
數(shù)據(jù)輸入格式	DXF, Gerber, BMP
電源	230 V/50 Hz, 100 VA
設(shè)備尺寸 (W x H x D)	650 mm x 522 mm x 626 mm (25.6” x 20.6” x 24.6”)
重量	80 kg (176.4 lbs)
集成攝像頭	用于樣品檢測和校正攝像頭
硬件和軟件的要求配置	Windows 7, 32 bit or Windows XP, 32 bit with service pack 3,1.3 GHz processor or higher, 2 GB RAM (4 GB recommended), 160 MB of available hard-disk space for installtion， screen resolution min.1024*768 pixles (1600 x 1050 recommended
了解更多進(jìn)口型號和國產(chǎn)型號請聯(lián)系我們： 010-62716680，[email protected]

微電路設(shè)計

微流控芯片

條狀結(jié)構(gòu)

微透鏡陣列

柱狀結(jié)構(gòu)

各種深寬比結(jié)構(gòu)

500nm薄膠結(jié)構(gòu)

部分應(yīng)用文獻(xiàn)

Ring-Shaped Microlanes and Chemical Barriers as a Platform for Probing Single-Cell Migration. Scientific Reports. 2016

Molybdenum carbide nanowires facile synthesis, a new hybrid phase and their use as transparent electrodes. RSC Advances. 2016

Fabrication of poly(3-hexylthiophene) nanowires for high-mobility transis-tors. Organic Electronics.2016

Fast electronic resistance switching involving hidden charge density wave states. Nature Communications. 2016

Controlling the metal-to-insulator relaxation of the metastable hidden quan-tum state in 1T-TaS2. Science Advances. 2015

Ultrafast Switching to a Stable Hidden Quantum State in an Electronic Crystal. Science. 2014

Fabrication of magneto-responsive microgears based on magnetic nanoparticle embedded PDMS. Rsc Advances. 2014

The effect of strain on the thawing of the hidden state and other transitions in 1T- TaS2. Physics. 2014

Fast non-thermal switching between macroscopic chargeordered. physics. 2014

Transitions between photoinduced macroscopic quantum states in 1T-TaS2 controlled by substrate strain. Applied Physics Express. 2014

MoS2 nanotube field effect transistors. AIP Advance. 2014

Rapid prototyping system with sub-micrometer resolution for micro-fluidic applications. Microsystem Technologies. 2012

High-resolution laser lithography system based on two-dimensional acousto-optic deflection. Review of Scientific Instruments. 2009

培訓(xùn)現(xiàn)場1
培訓(xùn)現(xiàn)場2
培訓(xùn)現(xiàn)場3
培訓(xùn)現(xiàn)場4
培訓(xùn)現(xiàn)場5
培訓(xùn)現(xiàn)場6

典型用戶

Dr. Dragan Mihailovi? (CENN Nanocenter)

利用DaLI發(fā)表多篇Science Nature 文章

- 2014 Science---Ultrafast Switching to a Stable Hidden Quantum State in an Electronic Crystal

- 2015 Science Advances---Controlling the metal-to-insulator relaxation of the metastable hidden quantum state in 1T-TaS2

- 2016 Nature Communications---Fast electronic resistance switching involving hidden charge density wave states

用戶評價

“The main advantage of the LDI is that we can perform RP and test alot of things without the cost and time intense procedure of writing andordering a mask.”

Dr. Dragan Mihailovi? 個人簡介

- guest co-editor "Proceedings of the20th Intentational Liquid Crystal Conference, Ljubljana 2004", Mol. Cryst.Liq. Cryst. Vols. 433-439, 2005.

- 9 contributions to the monographs.

- more than 100 publications ininternational journals and conference proceedings.

- 30 patents and patent applications, 6international patents.

- more than 1000 citations in the period1984-2007.

- more than 25 invited lectures atinternational conferences and workshops in the period 1995-2008

- 11 invited lectures at foreignuniversities in the period 1992-2008

- plenary lecture at "21stInternational Liquid Crystal Conference", Keystone, Colorado, USA, 2006.

- plenary lecture at "9th EuropeanConference on Liquid Crystals-ECLC 2007", Lisboa, Portugal

用戶單位與合作示范實驗室

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DaLI系列無掩膜納米光刻機

以優(yōu)于1nm的光斑定位精度，快速完成高精細(xì)結(jié)構(gòu)的構(gòu)建

產(chǎn)品概述基本特點結(jié)果展示安裝圖集用戶評價

超穩(wěn)定，長時效375nm激光

廣泛的適應(yīng)性

非平表面直寫功能

整機恒溫系統(tǒng)，保證最佳的性能

準(zhǔn)確的圖形結(jié)構(gòu)

工作范圍與曝光拼接

用戶友好的操作軟件

先進(jìn)的AOD技術(shù)，定位分辨率優(yōu)于0.1nm

多重校準(zhǔn)/反饋機制

兩種直寫光斑自動切換

更好的深寬比

DaLI基礎(chǔ)款參數(shù)

典型用戶

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DaLI系列無掩膜納米光刻機

以優(yōu)于1nm的光斑定位精度，快速完成高精細(xì)結(jié)構(gòu)的構(gòu)建

產(chǎn)品概述基本特點結(jié)果展示安裝圖集用戶評價

超穩(wěn)定，長時效375nm激光

廣泛的適應(yīng)性

非平表面直寫功能

整機恒溫系統(tǒng)，保證最佳的性能

準(zhǔn)確的圖形結(jié)構(gòu)

工作范圍與曝光拼接

用戶友好的操作軟件

先進(jìn)的AOD技術(shù)，定位分辨率優(yōu)于0.1nm

多重校準(zhǔn)/反饋機制

兩種直寫光斑自動切換

更好的深寬比

DaLI基礎(chǔ)款參數(shù)

典型用戶

以優(yōu)于1nm的光斑定位精度，快速完成高精細(xì)結(jié)構(gòu)的構(gòu)建

超穩(wěn)定，長時效375nm激光

先進(jìn)的AOD技術(shù)，定位分辨率優(yōu)于0.1nm